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硅片检测有哪些项目 硅片检测标准

硅片粗糙度的常用指标有两种,一种是平均粗糙度,一种是均方根粗糙度等方式。在实践中,硅片粗糙度会对所制造出的硅片器件产生许多种不同的效果,从电气性质到力学属性再到光学的表现都会如此受到干扰。比如在制作半导体器件的时候,如果使用硅材质的材料表面不光滑的话,可能会对产品造成不良的影响,因此我们就需要做硅片粗糙度检测,那么硅片粗糙度检测的标准是什么呢?下面微谱就来说下。

硅片粗糙度检测项目

1、Ra值:Ra值是粗糙度的一种重要参数,表示单位长度内表面高度差的平均值。Ra值是表面粗糙度检测中***常见的参数之一。

2、Rq值:Rq值是以均方根高度的形式表示的表面粗糙度参数,它对于特征的统计分析具有更好的效果。

3、Rz值:Rz值是表面高度差的峰值和谷值之间的距离。

4、Rt值:Rt值是表面***高点与***低点之间的距离,它反映了表面的毛刺以及可能出现的凸起和凹陷。

5、Rsk值和Rku值:Rsk值和Rku值是表面高度分布偏移程度和分布对称度的参数,可以用来描述表面的形状。

硅片粗糙度检测

硅片粗糙度检测方法

硅片粗糙度的检测方法主要有原子力显微镜(Atomic Force Microscopy,AFM)、白光干涉仪(White Light Interferometry,WLI)、扫描电子显微镜(Scanning Electron Microscopy,SEM)、光学显微镜(Optical Microscopy)和接触式表面粗糙度计等。其中,AFM是当前常用的检测硅片粗糙度的方法之一,能够提供高分辨率的表面形貌图像;而SEM则可以提供较大的检测范围和深度,并且可以检测表面形貌特征。

硅片粗糙度检测标准

ISO 10110-7:2017 光学元件和光学设备-一个技术规范的指南 面良好设计规范部分7

ISO 10110-8:2010 光学元件和光学设备-一个规范的技术的指南 面良好设计规范部分8

GB/T 19738-2005 硅片表面缺陷检测方法

硅片粗糙度检测优势

1、硬件实力强

标准化实验室、技术人员经验丰富、仪器设备完善,强大数据库

2、技术优势

10余年领域聚焦、专注检测测试分析评估、提供完善评估方案

3、服务周到

全程专业工程师一对一服务、解决售后问题

硅片粗糙度检测流程

1、项目申请:向检测机构递检测申请。

2、产品测试:企业将待测样品寄到实验室进行测试。

3、编制及审核报告:检测机构根据数据编写并审核报告。

4、签发报告:报告审核无误后,出具报告。

硅片粗糙度的检测是制造工艺中不可缺少的一环,也是保证产品质量的重要手段。目前国内大部分企业对于硅片粗糙度的检测还是比较重视的,大家在检测的时候,都会找专门的检测机构,这样比较省心,可以避免不必要的麻烦。在众多的检测机构中,我们熟知的就是微谱公司,它是一家专业从事检测的企业,可以为客户提供多方位的个性化服务,大家可以放心选择。

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